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第一作者 ： 顾静琰

发表时间 ： 2013-01-01

发表刊物 ： 半导体光电

所属单位 ： 数理与信息工程学院

文献类型 ： 期刊

期号 ： 第6期

页面范围 ： 1005-1008

ISSN ： 1001-5868

关键字 ： 多晶硅；制绒；电化学腐蚀

摘要 ： 主要介绍了在NaOH溶液中,利用电化学技术腐蚀制备多晶硅绒面的新方法。实验中,通过改变腐蚀液浓度、腐蚀电压、腐蚀温度等因素,制得一系列多晶硅绒面。实验结果表明,当腐蚀碱液浓度为20%,腐蚀电压为20V,腐蚀温度为25℃时,腐蚀得到的硅片表面比较均匀,在波长400～800nm范围内,测量得表面反射率最低为19%左右。

是否译文 ： 否