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第一作者 ： Wu, FM

发表时间 ： 2007-01-01

发表刊物 ： Chinese physics

所属单位 ： 数理与信息工程学院

文献类型 ： 期刊

卷号 ： Vol.16

期号 ： NO.10

页面范围 ： 3029-3035

ISSN ： 1674-1056

关键字 ： heteroepitaxy;pulse;laser;deposition;Ehrlich-Schwoebel;(ES);barrier;kinetic;Monte;Carlo;simulation;MOLECULAR-BEAM;EPITAXY;MONTE-CARLO-SIMULATION;INTERLAYER;MASS-TRANSPORT;THIN-FILM;GROWTH;BY-LAYER;GROWTH;HOMOEPITAXIAL;GROWTH;DYNAMICS;SIMULATION;CRYSTAL;SU

摘要 ： The heteroepitaxial growth of multilayer Cu/Pd(100) thin film via pulse laser deposition (PLD) at room temperature is simulated by using kinetic Monte Carlo (KMC) method with realistic physical parameters. The effects of mass transport between interlayers

是否译文 ： 否