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基本信息Personal Information
教授 硕士生导师
主要任职 : 教师
曾获荣誉 : 1.校青年教师“教学十佳”称号(1999.12); 2.省高校“三育人”先进个人(2010.09); 3.睿达教学突出奉献奖(2016.12); 4.省“师德先进个人”(2017.09); 5.省“高校优秀共产党员”称号（2019.07） 6.第十二届“郑晓沧奖”（2021.9）
性别 : 男
毕业院校 : 华东师范大学
学历 : 研究生班毕业
学位 : 硕士学位
在职信息 : 在岗
所在单位 : 物理与电子信息工程学院
入职时间 : 1991年08月01日
办公地点 : 浙江师范大学 科技楼29-530
联系方式 : 浙江师范大学 物理与电子信息工程学院 57#
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真空蒸镀制合金薄膜用SiO<sub>2</sub>基片清洗方法
点击量 ：
申请专利人 ： 浙江师范大学
第一作者姓名 ： 彭保进
发明设计人 ： 彭保进，应朝福，万旭，叶晶，刘蕴涛
所属单位 ： 数理与信息工程学院
专利类型 ： 发明专利
专利说明 ： 本发明涉及一种真空蒸镀制合金薄膜用SiO 2 基片清洗方法。它是(1)将 基片抛光粉打磨；(2)放置于配比为：氨水∶双氧水∶去离子水为1～1.2∶2～ 3∶5～6的清洗液,煮沸10～20分钟,再用去离子水冲洗干净；(3)再置于容 器中加入比为：盐酸∶双氧水∶去离子水为1～1.2∶2～3∶8～10的清洗液中, 同样煮沸10～12分钟后用去离子水冲洗干净；(4)再放入超声波清洗机中, 用去离子水为清洗介质,采用常温和控制在50～75℃超声波抛动清洗和无 超声波抛
申请日期 ： 2008-09-04
申请号 ： 200810120429.9
公开日期 ： 2010-03-10
是否职务专利 ： 否