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基本信息Personal Information
教授 硕士生导师
主要任职 : 教师
曾获荣誉 : 1.校青年教师“教学十佳”称号(1999.12); 2.省高校“三育人”先进个人(2010.09); 3.睿达教学突出奉献奖(2016.12); 4.省“师德先进个人”(2017.09); 5.省“高校优秀共产党员”称号（2019.07） 6.第十二届“郑晓沧奖”（2021.9）
性别 : 男
毕业院校 : 华东师范大学
学历 : 研究生班毕业
学位 : 硕士学位
在职信息 : 在岗
所在单位 : 物理与电子信息工程学院
入职时间 : 1991年08月01日
办公地点 : 浙江师范大学 科技楼29-530
联系方式 : 浙江师范大学 物理与电子信息工程学院 57#
Email :
真空蒸镀法制备巨磁阻抗薄膜的方法
点击量 ：
申请专利人 ： 浙江师范大学
第一作者姓名 ： 彭保进
发明设计人 ： 彭保进，应朝福，万旭，叶晶，刘蕴涛
所属单位 ： 数理与信息工程学院
专利类型 ： 发明专利
专利说明 ： 本发明涉及一种真空蒸镀法制备巨磁阻抗薄膜的方法。它采用可蒸镀 各种高低熔点的金属和氧化物材料的真空镀膜机，SiO 2 基片经抛光打磨； 氨水：双氧水：去离子水混合液煮沸，去离子水冲净；盐酸：双氧水：去离子水 混合液煮沸去离子水冲净；超声波和无超声波去离子水介质常温、加温抛 洗；入氮气炉烘干；在真空舱内离子枪轰击表面清洗。在低气压环境下， 对玻璃基片附加磁铁，使待镀玻璃基片在镀膜的整个过程始终处于稳定磁 场当中，并用补偿式控制蒸镀薄膜材料的原子量比，使蒸镀制得的成品薄 膜的合金成分与期望比例一致性好的短方向
申请日期 ： 2008-09-04
申请号 ： 200810120431.6
公开日期 ： 2010-03-10
授权日期 ： 2013-09-04
授权号 ： CN101665911B
是否职务专利 ： 否