真空蒸镀机加磁基片固定装置
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申请专利人：浙江师范大学
第一作者：彭保进
发明设计人：彭保进，应朝福，万旭，叶晶，刘蕴涛
所属单位：数理与信息工程学院
专利类型：实用新型专利
专利说明：本实用新型涉及一种真空蒸镀机中附加磁性块和固定待镀基片的固定装置，它是个至少一端开口的柱状匣体，其两侧壁上设有与真空蒸镀机相连接的凸块，匣体的下侧内壁设有搁放基片的平面，相对应处开设有露出基片蒸镀面的开孔；而匣体空腔可以是分隔成并排三个的，露出基片蒸镀面的开孔位于中间的空腔中；还有该匣体空腔左右两侧或匣体左右两侧空腔内也还可以设有磁性块，搁放基片的平面和露出基片蒸镀面的开孔被设置在两磁性块中间的。其结合了工艺需要和真空蒸镀机内腔的结构条件，采用水平设置加设磁场的形式，具有结构简单，使用可靠，本体和磁性块拆
申请日期：2008-09-04
申请号：200820163668.8
公开日期：2009-07-22
授权日期：2009-07-22
授权号：CN201278028
是否职务专利：否
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