黄仕华
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申请专利人 : 浙江师范大学
作者 : 黄仕华
发明设计人 : 黄仕华,陈达
所属单位 : 数理与信息工程学院
专利类型 : 发明专利
专利说明 : 本发明提供了一种具有稳定阈值电阻转变特性的材料,其为具有非晶硅或纳米晶硅颗粒嵌入的氧化硅薄膜,膜的厚度为30‑80nm。一种动态随机存储器件,包括顶电极、阻变介质层、衬底和背电极,该阻变介质层为上述具有非晶硅或纳米晶硅颗粒嵌入的氧化硅薄膜。所述顶电极可以采用Cu为材料。本发明选用了COMS工艺兼容的技术来制备动态随机存储器件,制备过程主要采用了物理法沉积薄膜设备和退火设备。通过控制靶材二氧化硅和硅片的表面积比、生长时间、生长气压、电源功率、退火温度和时间等参数,达到人为控制纳米颗粒嵌入的氧化硅薄膜状态的目
申请日期 : 2016-05-17
申请号 : 201610325231.9
公开日期 : 2018-10-09
授权日期 : 2018-10-09
授权号 : CN105932154B
是否职务专利 : 否