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第一作者 ： 黄仕华

发表时间 ： 2012-01-01

发表刊物 ： 半导体光电

所属单位 ： 数理与信息工程学院

文献类型 ： 期刊

期号 ： 第1期

页面范围 ： 65-69

ISSN ： 1001-5868

关键字 ： 多晶硅太阳电池；制绒；NaOH-NaClO腐蚀液

摘要 ： 介绍了一种采用NaOH-NaClO混合腐蚀液制备多晶硅绒面的新方法。研究结果表明,当VNaOH:VNaClO=1:3,NaOH浓度为17%,腐蚀温度为80℃,腐蚀时间为20min时,能够得到均匀的沟壑状凹坑多晶硅绒面,腐蚀后硅片表面的反射率与未腐蚀的硅片表面的反射率相比,降低近30%。另外,与传统的HF:HNO3酸腐蚀工艺相比,这种新型腐蚀工艺不仅可以获得反射率更低的多晶硅绒面结构,而且反应过程中产生的具有高度活性的氯离子可以作为很好的吸杂剂,降低一些有害的金属杂质的活性以提高太阳电池的开路电压,同时也省

是否译文 ： 否