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第一作者 ： 寿莎

发表时间 ： 2008-01-01

发表刊物 ： 材料导报

所属单位 ： 数理与信息工程学院

文献类型 ： 期刊

卷号 ： 第22卷

期号 ： 第A2期

页面范围 ： 58-60

ISSN ： 1005-023X

关键字 ： Si/SiO₂超晶格；纳米Si；退火

摘要 ： Si/SiO 2 超晶格是近年发展起来的一种新的Si基纳米结构,有着广阔的应用前景。该材料结构是通过选择合适的镀膜技术（如热反应蒸发、分子束外延）,在衬底表面交替形成Si/SiO 2 纳米薄膜,对该结构热处理后形成Si/SiO 2 纳米结构。衬底温度、衬底材料、沉积薄膜厚度、应用的退火过程等均会影响超晶格中纳米Si的形成。具体分析了上述因素对形成纳米Si的影响。

是否译文 ： 否