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第一作者 ： Huang, Shihua

发表时间 ： 2009-01-01

发表刊物 ： Applied Surface Science

所属单位 ： 数理与信息工程学院

文献类型 ： 期刊

卷号 ： Vol.255

期号 ： No.8

页面范围 ： 4547-4550

ISSN ： 0169-4332

关键字 ： Si/SiO(2);superlattice;Magnetron;sputtering;Raman;spectroscopy

摘要 ： Si/SiO2 superlattices were prepared by magnetron sputtering, and the deposition temperature and annealing temperature had a great influence on the superlattice structure. In terms of SEM images, the mean size of Si nanocrystals annealed at 1100 &#xb0

是否译文 ： 否