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发表刊物 ： ACS Applied Materials & Interfaces

所属单位 ： 数理与信息工程学院

文献类型 ： 期刊

关键字 ： large area;ordered array;nanosphere photolithography;Si;PEC

摘要 ： In this Article, we report the successful fabrication of large-area ordered Si nanowire arrays (NWAs) by a cost-effective and scalable wet-etching process in combination with nanospheres lithography technique. The periodical Si NWAs are further investigat

是否译文 ： 否