点击量 ：

第一作者 ： Cao,Xiaohua

发表时间 ： 2008-01-01

发表刊物 ： Journal of Alloys and Compounds

所属单位 ： 教师教育学院

文献类型 ： 期刊

卷号 ： Vol.465

期号 ： No.1-2

页面范围 ： 491-496

ISSN ： 0925-8388

关键字 ： NANOCRYSTALS;NANOSTRUCTURES;NANOPARTICLES;THIN;films

摘要 ： 48.28at.%Ti–51.72at.%Ni thin films were prepared by magnetron sputtering and post-annealed at 450, 500, 550 and 600°C, respectively. The evolution of structure, phase transformation and nanoscale indentation behavior of Ti–Ni thin film annealed at differe

是否译文 ： 否