|
基本信息Personal Information
教授
性别 : 男
毕业院校 : 厦门大学
学历 : 博士研究生毕业
学位 : 博士学位
在职信息 : 在岗
所在单位 : 物理与电子信息工程学院
入职时间 : 2008年09月23日
办公地点 : 浙江师范大学29栋419B（电梯对面）
联系方式 : 13857986033（微信号）
Email :
扫描关注
以SiO<sub>2</sub>为模板制备高比表面积g-C<sub>3</sub>N<sub>4</sub>光催化剂<sup>*</sup>
点击量 ：
第一作者 ： 余竞雄
发表时间 ： 2017-01-01
发表刊物 ： 浙江师范大学学报(自然科学版)
所属单位 ： 数理与信息工程学院
文献类型 ： 期刊
卷号 ： 第40卷
期号 ： 第1期
页面范围 ： 36-42
ISSN ： 1001-5051
关键字 ： 石墨相氮化碳；高比表面积；光催化；纳米薄片结构；SiO2嵌入剂
摘要 ： 比表面积大小是限制普通块状g-C3N4（Bulk-C3N4）光催化性能的重要因素,以三聚氰胺为原料,SiO2纳米粒子为嵌入剂,采用一种简便的方法制备出一种具有纳米片结构的高比表面积g-C3N4（HA-C3N4）.同时使用X射线粉末衍射（XRD）、傅里叶变化红外光谱（FT-IR）、氮气吸脱附（BET）、透射电镜（TEM）、紫外可见光谱（UV-vis）和荧光光谱（PL）等表征手段分析了所制备材料的结构、形貌特征、比表面积和光学性质.结果表明:所制备的HA-C3N4具备纳米薄片结构,其比表面积相比于Bulk-C
是否译文 ： 否