CuO/CeO2-Al2O3催化剂中CuO物种的原位XRD、Raman和TPR表征
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第一作者:何迈
发表时间:2005-01-01
发表刊物:物理化学学报
所属单位:物理化学研究所
文献类型:期刊
期号:第9期
页面范围:997-1000
ISSN号:1000-6818
关键字:CuO/CeO2-Al2O3;XRD;Raman;TPR;CuO迁移;固相反应
摘要:采用原位XRD、激光Raman光谱和TPR(程序升温还原)技术研究了CuO(w,%)/CeO2-Al2O3催化剂中CuO物种的存在形式及其CuO物种的迁移.低温焙烧(300℃)催化剂,CuO以高分散和晶相两种形式存在于CeO2-Al2O3载体表层.随着焙烧温度的升高,CuO开始从表层向CeO2内层迁移.处于内层的CuO部分以晶相形式存在,部分与Al2O3载体反应生成CuAl2O4.高温有利于表层CuO向CeO2内层迁移,同时促进CuAl2O4生成.结果表明结合原位XRD、激光Raman光谱和TPR技术可以
是否译文:否