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申请专利人 ： 浙江师范大学

作者 ： 何兴伟

发明设计人 ： 何兴伟，方允樟，李文忠，马云，金林枫

所属单位 ： 数理与信息工程学院

专利类型 ： 发明专利

专利说明 ： 本发明涉及一种底层埋入式微米级三维薄膜电感器及其制造方法，本发明提出了底层埋入式的概念，即在底导线层光刻实现后不直接镀膜，而是采用刻蚀的方法使衬底下凹，再镀膜，将底导线层斜纹埋入凹槽，并通过控制厚度，让底导线层斜纹的顶部与衬底基本持平。然后在该平面上依次镀绝缘层、磁芯层、绝缘层、顶条纹导线层。通过纯光刻法，实现结构优良的三维薄膜电感器。并将尺寸减小到微米级。同时又保证生长的底导线层上平面与衬底面持平，使得其后的膜层生长在水平面上。成功的避免了磁性层的弯曲及各层在垂直平面方向部分交叠的情况，结构上达到了膜层

申请日期 ： 2015-12-09

申请号 ： 201510906003.6

公开日期 ： 2016-03-23

授权日期 ： 2018-03-30

授权号 ： CN105428034B

是否职务专利 ： 否