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    黄仕华

    • 教授 博士生导师 硕士生导师
    • 性别 : 男
    • 毕业院校 : 复旦大学
    • 学历 : 博士研究生毕业
    • 学位 : 博士学位
    • 在职信息 : 在岗
    • 所在单位 : 物理与电子信息工程学院
    • 入职时间 : 2004-07-01
    • 办公地点 : 校内科技楼（29幢）418室（靠西边）
    • 联系方式 : 通讯地址：浙江省金华市迎宾大道688号浙江师范大学数理信息学院 邮编：321004 Email：huangshihua@zjnu.cn 联系电话：0579-82298266（办公室），82298856（实验室）
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    Effects of O2/Ar ratio and annealing temperature on electrical properties of Ta2O5 film prepared by magnetron sputtering

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    第一作者 ： 黄仕华

    发表时间 ： 2013-01-01

    发表刊物 ： 中国物理B(英文版)

    所属单位 ： 数理与信息工程学院

    文献类型 ： 期刊

    卷号 ： 第22卷

    期号 ： 第2期

    页面范围 ： 481-486

    ISSN ： 1674-1056

    关键字 ： Ta2O5薄膜；退火温度；溅射制备；电性能；五氧化二钽薄膜；磁控；有效介电常数；气体混合物

    是否译文 ： 否

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