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基本信息Personal Information
正高级工程师
性别 : 男
毕业院校 : 西安建筑科技大学
学历 : 博士研究生毕业
学位 : 博士学位
在职信息 : 退休
所在单位 : 物理与电子信息工程学院
入职时间 : 1986年07月01日
学科 : 物理学
联系方式 : 13566771116
Email :
Simulation of multilayer Cu/Pd(100) heteroepitaxial growth by pulse laser deposition
点击量 ：
第一作者 ： Wu, FM
发表时间 ： 2007-01-01
发表刊物 ： Chinese physics
所属单位 ： 数理与信息工程学院
文献类型 ： 期刊
卷号 ： Vol.16
期号 ： NO.10
页面范围 ： 3029-3035
ISSN ： 1674-1056
关键字 ： heteroepitaxy;pulse;laser;deposition;Ehrlich-Schwoebel;(ES);barrier;kinetic;Monte;Carlo;simulation;MOLECULAR-BEAM;EPITAXY;MONTE-CARLO-SIMULATION;INTERLAYER;MASS-TRANSPORT;THIN-FILM;GROWTH;BY-LAYER;GROWTH;HOMOEPITAXIAL;GROWTH;DYNAMICS;SIMULATION;CRYSTAL;SU
摘要 ： The heteroepitaxial growth of multilayer Cu/Pd(100) thin film via pulse laser deposition (PLD) at room temperature is simulated by using kinetic Monte Carlo (KMC) method with realistic physical parameters. The effects of mass transport between interlayers
是否译文 ： 否